FSCE - Photolithography Rovolution -

 

代表ご挨拶

 

 

 FSCEは2013年に技術コンサルティングからスタートし、最終的にはエンジニアリング会社を志向しています。現在はIPの取得にフォーカスしており、そこから得た利益を次の開発投資に循環させ、更に多くの優良なIPを獲得して行きたいと考えております。
 そのIPの一つがフォトマスク描画機DSW、座標測定機HPSです。事業化するには規模が大きいためカーブアウトして多くのパートナー様に参画頂き株式会社Artfilを設立しました。Artfilは現在も増資を進めており、これから事業を本格化して参ります。またFPDフォトマスク用の新しいレジストFLEXも開発しました。FLEXは高感度かつ高い解像度を持つユニークな特徴があります。現在研究設備を用いたサンプル出荷、少量生産を行っていますが、これから規模を拡張した新ラインを建設し来年度に稼働させる予定です。
 FPDフォトマスク以外の分野からの問い合わせも増えており、Artfilと同様JV化も視野に入れて進める予定です。その他様々なアイアムを持つ弊社に必要な技術領域は幅広く、自社だけで全てをカバーするのは困難です。そこでグループ全体の方針としてオープンイノベーションを通した本格的なJOB型エンジニアリング組織を採用しています。
 今後ともご支援頂けます様よろしくお願い申し上げます。

 

 

株式会社FSCE  

代表取締役社長 

村井 誠 



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